膜厚计工作原理

 

  日本膜厚镀层的测量勉强可以称为长度量测的一种,但实际上它的工作原理和测量方法与一般的长度测量是不一样的。    目前膜厚计测的要求有日渐增多的趋势,这是由于涂膜已不再只是美化材料表   面或防腐的功能而已,一些新的电器、电子 产品,都是利用涂膜的工件来担任一些重大的工作,因此膜厚的计测非常值得我们重视。    膜厚计可分为破坏式及非破坏式两种。依其针对的测量对象不同而有所区别。一般而言,膜厚测量有以下几种场合:    1.底材为磁性金属,而涂膜为非磁性金属:例如钢板在加工工厂加工、割切、 焊接时,须喷涂一层底漆(Shop PAINTING)。而此层涂漆如果太厚,非但耗费 漆材,而且严重防碍割切,焊接等工作的进行,但如果喷涂太薄,又容易导致钢 板生锈,以致影响施工品质。   2.底材为非磁性金属涂膜亦为非磁性金属:例如照相用底片为塑料材料,而其感光膜亦为非金属材料。(例如卤化银),测量膜厚主要是作为底片生产品质的控制,膜厚直接影响底片冲洗的时间及影像的清晰度。    3.底材为磁性金属而涂膜亦为磁性金属:例如电镀即是,镀膜膜厚通常与电镀时间有关,而镀膜是否均匀则依赖生产技术的改良,这时候便须有良好的膜厚计来加以检验了。   4.底材为非磁性金属而涂膜为磁性金属:喷敷技术或电镀时先将底材表面金属化,或是蒸镀 ,都可达成此一任务,产品的例子如全反射面镜,抗反射玻璃等等。有时因品质要求严格,其膜厚精度甚至控制在数 n m 左右。   现介绍各种不同的膜厚计测仪器如下:    
1.破坏式膜厚计:利用钻石刀将底材连同膜厚截断,然后将断面置于光学颢微镜检查,其断面斜度有30度斜角,60度斜角及45度斜角的分别，亦有采用90度切断检查者。  
2.光学椭圆仪:其原理是利用分光的技术,由于不同材料有不同折射率的特性 ,因此求得膜厚,其仪点为精度高,不论膜厚薄至数 n m ,也可以量取,但是缺点是价格较贵。