测厚仪原理

 

1.光谱干涉测厚仪

这是一种利用光的干涉原理的膜厚计。当光照射到被测量物体上时，它会从薄膜的正面和背面反射。这两束反射光之间存在相移，并且这种相移取决于薄膜的厚度。当波以相位重叠时，它们会相互加强，而当它们以相反的相位重叠时，它们会相互破坏性干扰，因此可以通过测量这种干扰的差异来测量厚度。

 

2.红外线测厚仪

这是一种利用被测量物体对红外线的吸收的厚度计。当用红外光照射被测物体时，根据被测物体的材质和厚度，某些波长的红外光会被吸收。利用此特性，根据散射透射或反射光所获得的光谱来测量薄膜厚度。如果预先测出被测材料的吸收率与膜厚的关系，就能够计算出目标材料的膜厚。

 

3.电磁测厚仪

这是一种利用磁通密度变化的膜厚计。该测量方法用于测量目标形成在磁性金属表面上的情况，利用了当磁铁单独靠近金属时与当磁铁靠近放置在金属上的被测量物体时磁通密度发生变化的事实。但这只能在被测物体与金属接触且本身不是金属时使用。

 

4.涡流测厚仪

涡流涂层厚度计利用线圈产生的磁通量变化来测量目标物体的厚度。通电线圈的周围会产生磁通，当线圈靠近测量物体时，磁通量会根据测量物体的厚度而变化。通过检测磁通量的变化来测量物体的厚度。

 

5.超声波涂层测厚仪

超声波测厚仪是利用超声波的反射的厚度计。当超声波从被测量物体的表面发射时，它穿过物体的内部，并从背面反射。根据反射发生的时间来测量厚度。

 

例如，为了测量玻璃等透明薄膜的厚度，可以使用利用宽带光的光谱干涉膜厚计或利用红外光的红外膜厚计。另一方面，这些类型的厚度计不能用于不透光的材料，例如金属。

 

测量薄金属镀膜时，使用利用磁通变化的电磁膜厚计或利用涡流的涡流膜厚计。此外，当难以接触被测物体时，也会使用非接触式涂层测厚仪，例如超声波涂层测厚仪。