薄膜厚度计原理

 

1. 光谱干涉膜厚仪

该薄膜厚度计利用了光的干涉原理。当光入射到被测物体上时，它会在薄膜的正面和背面反射。这两束反射光之间存在相位差，该相位差的大小取决于薄膜的厚度。当两束光以相同相位重叠时，它们会发生相长干涉；当两束光以相反相位重叠时，它们会发生相消干涉。因此，通过测量这种干涉差，就可以测量厚度。

 

2.红外膜厚仪

该膜厚计利用了被测物体对红外光的吸收特性。当红外光照射到被测物体上时，根据被测物体的材质和厚度，特定波长的红外光会被吸收。利用这一特性，根据透射光或反射光的分光光谱来测量膜厚。如果预先测量被测材料的吸收率与膜厚之间的关系，就可以计算出被测物体的膜厚。

 

3.电磁涂层测厚仪

这是一种利用磁通密度变化的涂层测厚仪。该测量方法适用于测量对象形成于磁性金属表面的情况，利用磁铁单独靠近金属时与磁铁靠近放置在金属上的测量对象时磁通密度的差异。但是，这种方法仅适用于测量对象与金属接触，而非金属本身的情况。

 

4.涡流膜厚仪

涡流涂层测厚仪利用线圈产生的磁通量变化来测量物体的厚度。通电线圈周围会产生磁通量，当线圈靠近物体时，磁通量会根据物体的厚度而变化。通过检测这种磁通量的变化来测量物体的厚度。

 

5.超声波涂层测厚仪

超声波膜厚计利用超声波的反射原理。当超声波从被测物体表面发射时，它会穿过物体内部，并在背面反射。根据反射所需的时间来测量厚度。

 

例如，在测量玻璃等透明薄膜的厚度时，会使用利用宽带光的光谱干涉型膜厚计，或利用红外光的红外膜厚计。另一方面，这些膜厚计不能用于金属等不透光的材料。

 

测量金属镀膜薄层时，通常使用利用磁通变化的电磁式膜厚计或利用涡电流的涡流式膜厚计。此外，当难以接触测量对象时，也会使用超声波膜厚计等非接触式膜厚计。