FE-5500椭圆偏光膜厚测量仪

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  • FE-5500椭圆偏光膜厚测量仪
  • OTSUKA大塚
  • FE-5500
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  • 通过自动多角度椭圆偏振光测量仪,实现高速的薄膜膜厚测量和高精度的化学常数解析。

产品详细介绍

 OTSUKA大塚椭圆偏光膜厚测量仪FE-5500

通过自动多角度椭圆偏振光测量仪,实现高速的薄膜膜厚测量和高精度的化学常数解析。

 

产品特点

纳米级的薄膜膜厚测量

非接触非破坏实现多层膜的解析。

 

材料表面光学常数(n.k)的测量

可求得膜厚以及光学定数的波长分数。

[膜厚,光学定数 (n:折射率、k:消光系数)、 椭圆偏光仪(tan.  cos)]

· 提供膜厚管理膜质管理有用的信息

 

通过400ch以上的多通道光谱法,迅速测量椭圆光谱

可实现一分钟以内的高速测量。

光谱点多,所以坡度大的椭圆光谱也可正确测量。

 

利用多波长光谱仪实现高精度高感度测量

测量反射角度可变,对应薄膜的高精度解析

可对应特制解析的材料物性和多层膜等的高度评价

利用多层膜fitting解析的光学常数测量实现了膜厚膜质管理。

利用有效媒质近似(EMA)可测量复素折射率的波长分散,混合结晶的混合比,界面的厚度等。

利用各种光学常数函数和膜model解析,可对应薄膜界面等的材料物性评价。

通过光学常数数据基础化和菜单登陆功能,改善了操作性。

 

 

应用范围:

■ FPD
LCDTFTFED(有机EL)
半导体

a-Sipoly-Si,其他。

复合半导体
・半导体激光,强电介质。
数据储存
DVDHDD、磁气头。
光学材料
・膜、反射膜

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