FE-300NIR膜厚仪

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  • 小型/低价格/简单操作/非接触的膜厚仪!

产品详细介绍

OTSUKA大塚膜厚仪FE-300NIR

小型/低价格/简单操作/非接触的膜厚仪!

绝对反射率测量、多层膜厚解析/光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)

 

特点:

薄膜到厚膜的量测范围。

基于绝对反射率光谱分析

小型/低价,高精度

无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手。

外观新颖,操作性提高。

非线性最小平方法,实现解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)

 

规格:

型号

FE-300V

FE-300UV

FE-300NIR *1

对应膜厚

标准型

薄膜型

厚膜型

厚膜型(高分辨率

样品尺寸

最大8晶圆(厚度5mm)

膜厚范围

100nm40μm

10nm 20μm

3μm300μm

15μm1.5mm

波长范围

450nm780nm

300nm800nm

900nm1600nm

1470nm1600nm

膜厚精度

±0.2nm以内*2

±0.2nm以内*2

-

-

重复精度

0.1nm以内*3

0.1nm以内*3

-

-

测量时间

0.1s 10s 以内

光斑直径

φ 3mm

光源

卤素灯

氙灯与卤素

卤素灯

卤素灯

通讯接口

USB

尺寸重量

280(W)× 570(D)×350(H)mm,约24kg

软体功能

标准功能

波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析

选配功能

材料分析软体、薄膜模型解析软件、标准片解析